Россия и Беларусь объединили усилия для создания линейки оборудования для производства фотошаблонов и фотолитографии. В кооперации с белорусским ОАО «Планар» разрабатываются девять установок, которые, как ожидается, должны закрыть критически важные звенья, сообщает cnews.ru
Согласно презентации директора департамента станкостроения Минпромторга Валерия Пивеня, совместные проекты с ОАО «Планар» охватывают практически всю технологическую цепочку производства фотошаблонов: от создания рисунка на фотошаблоне до контроля его дефектов.
В перечень разработок входят генератор изображений на фотошаблонах для техпроцессов 90–65 нм («Процесс ГИФ», 2025 г.), установка контроля топологии на фотошаблонах для тех же норм («Процесс КТФ», 2024 г.). В 2026 г. запланировано создание установок переноса меток совмещения, контроля координат топологических элементов, лазерного устранения дефектов и контроля привносимой дефектности. На 2027 г. запланирована установка контроля полутоновых маскирующих покрытий.
По мнению партнера практики «Промышленность и технологии» Strategy Partners Романа Тиняева, инженерная и производственная работа лежит на белорусском предприятии, а российская сторона выступает в роли заказчика, методолога, интегратора и финансирует работы. Он считает сотрудничество с «Планаром» тактическим успехом, позволяющим закрыть критические ниши в производственной цепочке.
Совместные проекты вписываются в программу развития электронного машиностроения, цель которой — к 2030 г. заместить около 70% импортного оборудования и материалов для микроэлектроники.